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四氟化碳的密度比較高，可以填滿地面空間范圍，上海四氟化碳，在不通風的地方會導致窒息。四氟化碳成品應存放在陰涼，干燥，通風的庫房內(nèi)，嚴禁曝曬，遠離熱源。四氟化碳是可作為氟和自由基氟化碳的來源，用于各種晶片蝕刻工藝。四氟化碳和氧結(jié)合用以蝕刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量大的等離子蝕刻氣體，其高純氣及四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體，可廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的蝕刻。

四氟化碳在900℃時，不與銅、鎳、鎢、鉬反應，僅在碳弧溫度下緩慢分解，微溶于水，在25℃及0.1Mpa下其溶解度為0.0015％（重量比），然而與可燃性氣體燃燒時，會分解產(chǎn)生有毒氟化物。以活性炭與氟為原料經(jīng)氟化反應制備。在裝有活性炭的反應爐中，高純四氟化碳價格，緩緩通入高濃氟氣，并通過加熱器加熱、供氟速率和反應爐冷卻控制反應溫度。反應放熱后，高純四氟化碳哪家好，氟開始和碳化硅進行反應，通入等體積的干燥氮氣以稀釋氟氣，使反應繼續(xù)進行，四氟化碳供應，生成氣體通過液氮冷卻的鎳制捕集器冷凝，然后慢慢地氣化。

四氟化碳亦稱全氟化碳、四氟甲1烷、全氟化碳，為非腐蝕性氣體，所有通用材料如鋼、不銹鋼、銅、青銅，鋁等金屬材料都可以使用。四氟化碳是一種造成溫室效應的氣體。它非常穩(wěn)定，可以長時間停留在大氣層中，是一種非常強大的溫室氣體。四氟化碳一般認為是惰性低毒物質(zhì)，在高濃度下是窒息劑，其毒性不及四氯1化碳。四氯化1碳與氟化1氫的反應在填有氫氧化鉻的高溫鎳管中進行。

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